INM 100 可依照應用需要做組配整合 : Wide-Field Microscopy : 明視野, 暗視野, 干涉對比, 螢光. Confocal Microscopy : 共軛焦影像斷層掃描觀察 -------------------------------------------------------------------------------- INM 100 是晶圓與光罩檢視的最佳光學顯微鏡 ( 包括液晶顯示板 LCD, 光碟 CD, 硬碟 Hard-disc, 品管與製程管理應用, 目前, 也包括許多微機電應用 MEMS, Nanotechnology ), 是先進的半導體廠或電子廠所必備的設備. 具有 Leica 獨家的新一代的 HC ( Harmonic Contrast ) 光學技術, 提供最佳光學平衡管理, 超高光學解析, 讓你看到次微米解析, 達到光學解析理論的極限. 使用上最具人性化的人因公學設計, 自動化控制提供最高的投資與使用效益. Class-1 的規劃, 合符新一代的半導體製程所需. INM 100 的觀察對比可依需要擴充, 包括明視野, 暗視野, 干涉對比, 螢光. 例如 : 明視野 ( BF ) : shapes, layer, etch quality. 暗視野 ( DF ) : edge roughness, surface impurities. 螢光 ( FL ) : residual photoresist, contamination 干涉對比 ( DIC ) : changes in topography or refractive index. ( 以顏色及亮度改變 ), 表面立體影像觀察 共軛焦影像 ( Confocal Contrast ) 能提高解析 ( 小於 0.2 微米 ), 提高觀察對比與景深, 能類似電腦斷層掃描, 讓使用者一層一層做掃描觀察與影像擷取, 配合數位影像系統, 可做 3D 立體重建, 共觀察與量測分析. 在觀察倍數可擴增到 10,000x. 同時, 可同時將共軛焦影像與 DIC ( wide-field ) 影像做重疊觀察與影像擷取, 操作上, 只要單一按鍵即可達到自動切換 ( WF - CF ). 紫外光學技術 ( UV imaging ) 提供超高解析至 120 nm ( 0.12 微米 ), 因應新一代的製程所需. 物鏡為 UV 150x/0.90 365 nm. 只要單一按鍵即可達到自動切換 ( WF - CF or UV ). 具有選配 UV-專用攝影鏡筒模組及 UV-攝影機 ( 類比 或 數位 ). 最高影像擷取倍率 16,000x. 擁有全世界最好的 UV 及 DUV 光學顯微鏡製造關鍵技術. INM 100 提供給 200 nm 晶圓 ( 或 光罩 ) 觀察, 可擴增共軛焦或UV-影像擷取, 操作上, 只要單一按鍵即可達到自動切換. INM 100 完全合符人體工學設計, 讓使用人員輕輕鬆鬆操控顯微鏡功能. Ergotube FSA-V ( 可選配電控式 ), 內間電控分光鏡, 可控制光路 晶圓用的 205 x 205 mm 載物台, 有手動及電控 ( 特殊選配 ) 兩種供選用. 本公司亦可依照客戶需求, 提供特殊電控載物檯,.光罩 ( mask ) 用附加載物盤. 精密載物台, 整體基座吻合 Class 1 要求 雙光源, 可切換落設螢光 及明暗視野觀察. 選配雙出口攝影鏡筒 ( 一般攝影機 及 UV 專用攝影機 ). Leica 具有各種固定倍率或可調倍率的攝影鏡筒. 簡易控制鈕, 提高工作效率. ( Control unit for magnification and aperture setting ) 調焦及載物檯移動控制設計在同一水平位置, 讓使用者可以舒適的單手操作. 單手操控, 提高效率 0 - 35 度, 連續可調. 適合所有體型的操作人員. 廣視野目鏡提供了 25 mm 視野, 縱使長時間觀察使用, 都不會產生眼睛疲勞或身體的不適.
